一键复用创作风格:Frames 让 AI 绘画也能有自己的 “专属滤镜”

Runway 新推出的 Frames 模型支持“一键复用创作风格”,用户可预设或自定义样式模板,聚焦色调、光线、纹理等通用风格要素,或为特定场景详述效果,避免重复输入提示词,显著提升 AI 绘画效率与风格一致性。

发布于2025年2月6日 06:58
编辑零重力瓦力
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Runway 的 AI 绘画模型 Frames 提供了一个便捷的图像生成方式:通过预设或自定义的样式来创作。使用时只需选择一个样式,输入 Prompt,选择合适的宽高比就能开始生成图像。特别方便的是,你可以创建自己的样式模板。如果想要一个通用性强的样式,就专注于色调、光线、纹理这些风格元素,避免加入具体的主题细节。如果是为特定场景设计样式,则建议尽可能详细地描述目标效果。这样一来,就不用每次都重复输入相同的提示词结构,能大大提高创作效率。

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